解决美国专利缺陷的利器，一文带你看懂专利再颁程序

在专利申请过程中，根据一些国家专利法的规定，一旦授权，专利权人很难有机会修改专利文本中的缺陷，甚至有些错误使得技术人员无法实施也无法再进行补救。但是，在美国专利申请过程中，有一种方式却能有效解决专利缺陷，提高专利的价值和应用范围，它就是专利再颁程序。

美国专利商标局规定对申请再颁的专利至少存在2个月的公告期，公告期满后才可以启动专利再颁程序，以便第三方有充足的时间提交与该再颁申请的专利性有关的证据和理由。

一、专利再颁程序定义

专利再颁程序是美国专利授权后专利申请文件修改的一种方式，允许专利权人从专利正式授权日开始，重新申请启动该专利的审查程序，要求对该专利申请文件中的权利要求进行再次审查，从而获得再颁专利以克服原专利申请文件中存在的缺陷。

与其他授权后专利审查程序不同的是，专利再颁申请无须第三人参与，由专利权人自由提出，并且须递交一份再颁申请以及一份说明所要改正错误的誓词，美国专利商标局经过实质审查后，如果发现该再颁专利申请的修改满足法定条件，则会进行再次授权。

二、审查标准

1.专利权人需要证明原专利的说明书或附图中存在缺陷，或者专利权人在专利申请文件中要求保护的范围大于或小于其有权要求保护的范围，使得原始专利全部或部分无效或无法实施。

2.专利权人需要证明主观上对于存在的错误和缺陷不含欺诈意图，即行为上存在非故意性的错误。

3.再颁专利必须得到原说明书的公开支持，即不得增加新的内容，其必须是针对"原专利所公开的发明创造"进行的。

4.对于范围扩大型再颁请求，必须在原专利授权后2年内提出再颁申请。

5.对于范围缩小型再颁请求，可以在原专利有效期间任何时候提出。

三、法律效力

再颁专利由于涉及到对权利要求保护范围的重新界定，因此不同类型的再颁专利效力各不相同。但不论是何种类型的再颁申请，再颁专利的有效期限始终为原专利期限的剩余部分.............

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